塑料成型工藝中描述的拋光與其他行業所需的表麵拋光（guāng）有（yǒu）很大不同，嚴格來說（shuō），模（mó）具的拋光應稱為（wéi）鏡麵拋光。它不（bú）僅對拋光

本身有很高的要求（qiú），而且對（duì）表麵平整度、的平滑度和幾（jǐ）何精度也有很高的標準。表麵拋（pāo）光通常僅（jǐn）需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中，它是（shì）難以準確地（dì）控製各部分的幾何（hé）精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量（liàng）不是必需的，精密模具主要是基於機械（xiè）拋光。 。

　　1、半精細拋光（guāng）主要使用砂紙實驗室和煤（méi）油協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和（hé）金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清（qīng）潔的空間，用於拋（pāo）光模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和（hé）唾液可能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時後獲得（dé）。

　　3、為（wéi）了獲得機械拋光的基本程序，高質量的拋光（guāng）效（xiào）果（guǒ），最重要的是要有高質量的拋光工（gōng）具和砂紙和研磨膏等配件。最重（chóng）要的是一個複（fù）雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光（guāng）程序的選擇（zé）取決於先前加工的表麵狀況（kuàng），例如、 EDM加工，磨（mó）削。

　　4、機械拋光的（de）一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在（zài）35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉（zhuǎn）。常見的方（fāng）法是使（shǐ）用直徑為3 mm、 WA＃400的（de）輪子去除白色（sè）火花層。然後手（shǒu）動油石磨，金剛石

砂岩和煤（méi）油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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